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技術文章
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技術文章
2025-1210
從實驗室的微升級混合到工廠的噸級供氣，氣體配比裝置以“精準”為底色，串聯起現代工業的精密需求。隨著智能制造與新材料產業的發展，其技術將持續迭代，成為支撐制造的“隱形基石”。核心功能：精準、穩定、智能氣體配比裝置的核心在于“精準調控”。其基礎功能是通過流量控制技術（如質量流量控制器、電磁閥、壓力傳感器等），實時監測并調節各路氣體的輸入速率，確保混合后氣體的組分濃度誤差可低至±0.1%以下。例如，在半導體制造中，硅片氧化工藝需嚴格控制氧氣與氮氣的混合比，稍有偏差便可...
查看更多2025-128
在半導體制造、真空鍍膜、科學實驗等高精度領域，分子泵組作為獲得高真空環境的核心設備，其穩定運行直接決定了生產質量與實驗結果。然而，受工況環境、使用時長、操作規范等因素影響，分子泵組易出現各類故障，及時準確的診斷與排除是保障設備效能的關鍵。分子泵組最常見的故障之一是真空度不達標，表現為真空計顯示數值始終高于目標值，無法達到工藝所需的高真空狀態。引發該問題的原因主要有三點：一是密封件老化或損壞，如法蘭密封圈因長期高溫、低溫交替出現裂紋，導致空氣泄漏；二是進氣口或管道存在堵塞，粉塵...
查看更多2025-126
在半導體研發與測試中，半導體冷熱臺作為關鍵的環境模擬設備，其性能直接影響材料表征、器件可靠性驗證等實驗的準確性。面對多樣化的應用場景，如何科學選型？溫度范圍、控溫精度與可靠性是三大核心考量要素，需結合具體需求綜合權衡。溫度范圍是基礎門檻，決定應用邊界。半導體制程涉及從極低溫到高溫的復雜場景：例如，量子點材料的光電特性測試可能需-200℃以下的深冷環境，而功率器件的結溫可靠性驗證則常要求300℃以上的高溫條件。選型時需明確實驗的溫度需求——若僅覆蓋常規溫區（如-40℃~150℃...
查看更多2025-125
一、引言在現代真空技術領域，分子泵組因其能夠實現高真空乃至超高真空環境，被廣泛應用于半導體制造、材料研究、表面分析、光電器件制備、真空鍍膜等多個行業。本文結合某型號分子泵組的具體參數（如一鍵啟動控制方式、TURBOVAC90i分子泵、極限真空度10??Pa、系統漏率1×10?1?Pa·m3/s等），從技術特點、典型應用場景與使用案例三個維度進行深入分析。二、分子泵組的技術特點該分子泵組具備高性能的真空抽氣能力，主要技術參數如下：控制方式：一鍵啟動，操作簡便，降低使用門檻分子泵...
查看更多2025-124
在工業生產與科研實驗中，加熱臺作為基礎溫控設備，已成為重要的工具。但隨著技術需求的升級，光電測試加熱臺與普通加熱臺逐漸形成明確分野，二者在設計理念、性能參數和應用場景上存在本質差異，直接影響實驗精度與生產效率。核心定位的差異是二者最根本的區別。普通加熱臺以“通用溫控”為核心目標，主打基礎加熱功能，適用于對溫度精度要求不高的場景，如電子元件預熱、膠水固化、樣品干燥等。其設計邏輯圍繞“穩定加熱”展開，無需復雜的輔助功能，追求高性價比和廣泛適用性。而光電測試加熱臺則聚焦“精準測控+...
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